Очистка в условиях производства интегральных схем

ОЧИСТКА В УСЛОВИЯХ ПРОИЗВОДСТВА ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ

Статья опубликована на сайте журнала "Controlled Environments" (www.cemag.us)

Постоянно растущее требование к надежности, тенденция к миниатюризации изделий и возрастающее количество неисправностей электронных компонентов, производимых в условиях, не соответствующих требуемым классам чистоты, – все эти факторы вынуждают вновь обратить внимание на процессы очистки в производстве интегральных схем. Промышленность предлагает различные решения для выбора оптимального метода очистки.

Разработка не очищенных от примесей флюсов и паяльных паст в значительной степени послужили причиной отвлечения внимания от необходимости соблюдения требуемой степени чистоты компонентов, используемых в производстве интегральных схем. Для множества компонентов, которые используются только в некритических атмо...