Очистка в условиях производства интегральных схем
Дорис Шульц
Чистые помещения | 4/2015 (56) октябрь-декабрь
ОЧИСТКА В УСЛОВИЯХ ПРОИЗВОДСТВА ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ
Статья опубликована на сайте журнала "Controlled Environments" (www.cemag.us)
Постоянно растущее требование к надежности, тенденция к миниатюризации изделий и возрастающее количество неисправностей электронных компонентов, производимых в условиях, не соответствующих требуемым классам чистоты, – все эти факторы вынуждают вновь обратить внимание на процессы очистки в производстве интегральных схем. Промышленность предлагает различные решения для выбора оптимального метода очистки.
Разработка не очищенных от примесей флюсов и паяльных паст в значительной степени послужили причиной отвлечения внимания от необходимости соблюдения требуемой степени чистоты компонентов, используемых в производстве интегральных схем. Для множества компонентов, которые используются только в некритических атмо...
Если вы уже подписчик, войдите или зарегистрируйтесь