Специальная подготовка баллонов - гарантия сохранения качества сверхчистых газов, применяемых в субмикронных технологиях

Введение

      Вектор развития технологии в микроэлектронной промышленности направлен на дальнейшее уменьшение геометрических размеров интегральных схем (ИС) в субмикронную область и увеличение степени их интеграции (плотности). Каждое новое поколение ИС предъявляет все более жесткие требования к качеству технологических сред, в том числе и газам. Роль последних становится все заметней, и это связано, в первую очередь, с увеличением доли «сухих» процессов, а также с увеличением объемов их потребления при переходе от 200 мм кремниевых пластин к 300 мм пластинам.

      В табл.1 представлены общие требования к чистоте технологических (магистральных) и специальных (баллонных) газов в зависимости от уровня технологии [1]. Уровень технологии и чистота газов тесно взаимосвязаны, так как газы принимают непосредственное участие в производственных процессах: при осаждении тонких пленок, ионной имплантации, лег...