Очистка водорода: сравнение эффективности никель/титановой и палладиевой технологий

Кремниевые эпитаксиальные процессы

      Водород высокой степени чистоты применяется практически во всех специфичных кремниевых эпитаксиальных процессах, включая низкотемпературную эпитаксию, кремний-германиевую эпитаксию, осаждение эпитаксиальных слоев кремния на изоляторе и осаждение атомарных пленок. Потребность в этих новых полупроводниковых материалах растет в связи с необходимостью повышения функциональности микроэлектронных изделий, увеличения их быстродействия, уменьшения топологических размеров и снижения уровня потребления энергии.

      В вышеперечисленных процессах водород применяется для создания сверхчистой восстановительной среды. Наличие молекулярных примесей в водороде приводит к ухудшению характеристик и времени жизни полупроводниковых изделий на базе эпитаксиальных слоев. При проведении эпитаксиального процесса молекулярные примеси, содержащие кислород, могут мигрировать и создавать своеобразн...