Получение воды сверхчистой с помощью непрерывной электродеионизации

      При изготовлении интегральных микросхем кремниевые пластины часто промываются водой. Применяемая для этих целей сверхчистая вода должна быть максимально очищенной, чтобы не нарушить чувствительный процесс изготовления. Поэтому водопроводная вода, используемая для производства полупроводниковых изделий, проходит очень сложный процесс очистки и в результате приобретает качества сверхчистой воды. Такая вода должна содержать по возможности минимальное количество примесей в виде частиц, ионов или органических примесей. В предлагаемой статье обобщается опыт применения установки электродеионизации для очистки воды. Эта установка имеет большие преимущества по сравнению с обычными ионо-обменниками.

Конструкция установки получения воды сверхчистой

      Наряду с очисткой воздуха, оборудование чистой зоны обеспечивает подачу определенных технологических сред. К качеству и чистоте жидких и газообразных технологических...