www.cleanrooms.ru/Архив/2006/1/2006 (17) январь-март

Электродиализный метод очистки технических стоков в процессе производства микрофотоэлектроники

Проскурин В. М., Смирнов Н. В., Первеев А. В.

Чистые помещения | 1/2006 (17) январь-март

      Внедрение в производство малоотходных и безотходных технологических процессов, замкнутых систем водного хозяйства в химической, микроэлектронной промышленности, а также в производстве лазерной и микропроцессорной техники выдвигает задачу создания эффективной системы очистки производственных сточных вод. Сложность решения этой задачи состоит в многообразии технологических процессов и получаемых продуктов. Следует отметить также, что основное количество воды в отраслях расходуется на охлаждение.

      В настоящее время для очистки воды используется несколько способов, в частности, коагуляционный, аэрирования, окисления, адсорбции и т. д. Все большее распространение в последнее время получают мембранные методы очистки.

      Выбор оптимальных технологических схем очистки воды — достаточно сложная задача, что обусловлено многообразием находящихся в воде примесей и высокими требованиями, предъявляемыми к ка...

Доступ только пользователям с подпиской. Чтобы прочитать статью целиком, оформите подписку.
Если вы уже подписчик, войдите или зарегистрируйтесь
< вернуться назад