Особенности проектирования систем подготовки деионизованной воды для микроэлектроники
Гайдуков Д.А.
Чистые помещения | 3/2006 (19) июль-сентябрь
Развитие современных микроэлектронных технологий идет по пути увеличения емкости интегральных микросхем и миниатюризации изделий, следствием чего является уменьшение основного геометрического показателя интегральной микросхемы - топологического размера, иными словами размера минимального элемента интегральной микросхемы.
В настоящее время некоторые из отечественных предприятий планируют или уже реализуют переход на изготовление интегральных микросхем с топологическим размером 0,25 мкм и ниже. В этой связи целесообразно рассмотреть некоторые особенности, которые могут возникнуть при проектировании и создании системы подготовки деионизованной воды (ДВ).
Уменьшение топологического размера обусловливает появление новых требований к ДВ, связанных с уменьшением размера «критической» частицы, которая сразу «убьет» интегральную микросхему; уменьшением концентраций ионов и растворе...
Если вы уже подписчик, войдите или зарегистрируйтесь