www.cleanrooms.ru/Архив/2009/1/2009 (29) январь-март

К вопросу об актуальности разработки современной отечественной нормативной базы в области подготовки технологических сред для производства СБИС

Агарков И.М., Агаркова И.Н., Шабанов И.Н.

Чистые помещения | 1/2009 (29) январь-март

Введение

      В последние 20 лет развитие микроэлектроники в России осуществлялось очень медленными темпами. Предприятия использовали и реализовывали, в основном, разработки 80-х годов в области микронных технологий. Возрождение промышленности в целом, наличие финансовых возможностей и потребность различных отраслей экономики обусловили предпосылки и обеспечили возможность создания целым рядом предприятий СНГ производств микроэлектроники для изготовления сверхбольших интегральных схем (СБИС) субмикронного уровня.

      В начале 2000-х годов в НИИСИ РАН (РНЦ «Курчатовский институт») была введена в эксплуатацию первая в России линейка для изготовления интегральных схем (ИС) с субмикронными топологическими нормами. В настоящее время в завершающей стадии ввода в эксплуатацию находятся производства ИС субмикронного уровня в ОАО «Микрон» (г. Зеленоград), НПО «Интеграл» (г.Минск), Ф...

Доступ только пользователям с подпиской. Чтобы прочитать статью целиком, оформите подписку.
Если вы уже подписчик, войдите или зарегистрируйтесь
< вернуться назад