К вопросу об актуальности разработки современной отечественной нормативной базы в области подготовки технологических сред для производства СБИС

Введение

      В последние 20 лет развитие микроэлектроники в России осуществлялось очень медленными темпами. Предприятия использовали и реализовывали, в основном, разработки 80-х годов в области микронных технологий. Возрождение промышленности в целом, наличие финансовых возможностей и потребность различных отраслей экономики обусловили предпосылки и обеспечили возможность создания целым рядом предприятий СНГ производств микроэлектроники для изготовления сверхбольших интегральных схем (СБИС) субмикронного уровня.

      В начале 2000-х годов в НИИСИ РАН (РНЦ «Курчатовский институт») была введена в эксплуатацию первая в России линейка для изготовления интегральных схем (ИС) с субмикронными топологическими нормами. В настоящее время в завершающей стадии ввода в эксплуатацию находятся производства ИС субмикронного уровня в ОАО «Микрон» (г. Зеленоград), НПО «Интеграл» (г.Минск), Ф...