Оптимизация процесса фильтрации в системе подготовки воздуха полупроводниковых производств

      Исторически сложилось так, что контроль летучих молекулярных загрязнений (АМС - Airborne Molecular Contamination)1 в воздушной среде полупроводниковых производств был введен в практику для решения уникальных проблем, удаления нежелательных примесей и контроля коррозии металлических покрытий, протекающей под воздействием этих примесей. С развитием современных технологий 65 нм и 45 нм и использованием высокоэнергетического ультрафиолетового излучения, воздействие АМС на экспонирование, а также оптику и фотошаблоны метрологически аттестова-ных установок заметно увеличивается с уменьшением длины волны ультрафиолета при экспонировании.

      Увеличение интенсивности луча с каждым технологическим этапом увеличивает чувствительность к загрязнениям, вызывая проблемы, связанные с понижением выхода годных, деградацией оптики и появлением матовости на поверхности фотошаблонов. Как результат, начинает возрастать необходимость в контроле АМС в во...